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納米小型真空均質機

納米小型真空均質機是適配實驗室研發(fā)的緊湊型設備,由真空系統(tǒng)與高剪切均質機組合而成。通過真空環(huán)境消除泡沫、隔絕空氣,配合高速定轉子產生強剪切力,實現(xiàn)物料納米級細化與均勻分散??赡M量產參數(shù),廣泛用于醫(yī)藥、食品等領域的小試與中試驗證。

  • 產品型號:GRS2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-11-03
  • 訪  問  量:18
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詳細介紹

納米小型真空均質機

   均質機可以有效的消除均質過程中泡沫,可以是物料均質的更che底;真空均質機也可以用于一些不易于空氣接觸的物料(易燃易爆),規(guī)避風險,提高生產的安全性。
                 
 
 均質機是由真空系統(tǒng)和均質機組成,一個真空罐體和管線式均質機相結合,真空罐內可以根據(jù)物料的粘稠度來配置相應的攪拌機(普通攪拌或者刮壁攪拌),小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為GR2000/4高剪切均質機,是一款小試和中試的理想均質設備,GR2000/4設備轉速高達9000rpm,三級工作頭,采用德國博格曼雙端面機械密封,均質效果jue佳。

納米小型真空均質機


影響均質均質結果的因素有以下幾點

 均質頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

 2 均質頭的剪切速率 (越大,效果越好)

 3 均質頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

 4  物料在均質墻體的停留時間,均質均質時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

 5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

 

納米小型真空均質機

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   

                         g -轉子 間距 (m)

 由上可知,剪切速率取決于以下因素:

 – 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 

SID -轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60


納米小型真空均質機設備選型表:

標準流量

輸出轉速

標準線速度

馬達功率

L/H

rpm

m/s

KW

GRS2000/4

300

14000

44

4

DN25

DN15

GRS2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

GRS2000/10

3000

7500

44

22

DN50

DN50

GRS2000/20

20000

4900

44

45

DN80

DN65

GRS2000/30

40000

2850

44

75

DN150

DN125

GRS2000/50

60000

2000

44

160

DN200

DN150


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