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  • GMSD2000隔膜分散改進式高速膠體磨

    隔膜分散改進式高速膠體磨,研發(fā)出了二者相結合的研磨分散機,其磨頭結構采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近,再配合15000RPM的超高轉速,當顆粒進入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。

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    2025-09-09

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  • GMSD2000墨水染料研磨機膠體磨

    墨水染料研磨機膠體磨 工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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    2025-09-09

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  • XMD2000煙用香精濃縮液高剪切膠體磨

    煙用香精濃縮液高剪切膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000碳酸氫鈉注射液均質膠體磨

    碳酸氫鈉注射液均質膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000β環(huán)糊精高剪切均質乳化機

    β環(huán)糊精高剪切均質乳化機 定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000脫細胞真皮基質膠體磨

    脫細胞真皮基質膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

    二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

    阿莫西林混懸液超高速膠體磨定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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